thography），能源部科学技术信息办公室，1998年3月10日，
高尔夫球”》（InterviewwithDr.PeterKurz:“HittingaGolfBallontheMoon”），《光子学世界》（WorldofPhotonics），微芯片开辟新天地》（ZEISS:BreakingNewGroundfortheMicrochipsofTomorrow），蔡司集团，YouTube视频，2019年8月2日，主要挑战是EUV难以反射。13.5纳米波长EUV更接近X射线而不是可见光。与X射线
样，许多材料吸收EUV，而不是反射EUV。蔡司开始开发由100层交替钼和硅制成反射镜，每层厚度为几纳米。劳伦斯·利弗莫尔国家实验室研究人员在1998年发表篇论文中确定
这是目前最佳EUV反射镜。但是，制造这样个具有纳米级精度反射镜被证明几乎是不可能。最终，蔡司创造有史以来最光滑镜子，其中缺陷小到几乎难以察觉。蔡司表示，如果EUV光刻系统中镜子按比例放大到德国面积大小，它们最大不平整度是十分之毫米。为精确地引导EUV，EUV光刻系统中镜子必须保持完
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