刻机通快高功率CO2激光器金刚石窗口制造能力》(II-VIIncorporatedExpandsManufacturingCapacityofDiamondWindowsforTRUMPFHighPowerCO2LasersinEUVLithography),世通社,2018年12月19日,
在西盟和通快找到种方法来轰击锡并使其发出足够强EUV后,下步是制作反射镜,收集光并将其指向硅芯片。制造世界上最先进光学系统德国公司蔡司自珀金埃尔默和GCA成立以来,就为光刻系统制造反射镜和透镜。但过去使用光学部件与EUV所需光学部件之间差异,大约与莱思罗普灯泡和西盟锡滴喷射系统之间差异样巨大。
C.蒙特卡姆(C.Montcalm),《极紫外线光刻多层反射涂层》(MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLi
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