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第70章 山巍[02](1 / 9)

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想偷科研成果也得偷得到,就算偷到也得销毁蓝河科技团队研发阶段视频

程院长凝视光源系统设备,长久无言。

直到林成建在盛明安身边提议专利申请,他才回过神来,深深呼出胸中那口沉淀多年郁气,心情畅快,问盛明安:“你打算申请提前毕业?”

盛明安惊讶:“您知道?”

“你是张教授得意门生,他经常在外面吹嘘你,申市光机所谁不知道?”程院长想起张群芳炫耀嘴脸就想翻白眼,他说:“如果你想申请提前毕业,光源系统被攻破这份科研成果确能让科大酌情考量,同意你申请。不过同意是方面,能不能通过考试又是另方面事。”

提前申请毕业可以,修足学分、通过考试。

光源系统设备验收阶段圆满完成,接下来就是高阶光刻机组装。

光源系统、双工作台系统和光学系统,余下零件所需还有更精确镜头组、反射镜,以及arf光刻胶等,国内暂时还没有研发出来。

但这都不是问题。

因为最艰难光源系统和双工作台系统已经被圆满攻破,剩下arf光刻胶等技术要求很高,可相对来说,难度系数不是特别大。

林成建也很兴奋,他勉强保持冷静,对盛明安和陈惊璆说:“光源系统设备验收通过,ic设计部正在攻破20nm以下鳍式场效应晶体管工艺,尽量保证们能够生产出13.5nm工艺以上更高精度芯片。”

学分不足前提下提前申请毕业也可以,通过科大校长、学院教授等权威人士考验就行。

“你剩下复习时间也不多,这样,反正光源系统设备已经成功验收,接下来设备完善、光源优化由来完成,你就专心复习怎样?”程院长建议道。

盛明安思索几秒,点头同意。

程院长见他痛快点头,好笑询问:“你不怕趁你准备毕业复习偷走你科研成果?”

盛明安闻言飞快眼程院长,表情有点言难尽:“程院,实验室里装满摄像头。”

鳍式场效应晶体管是种防止因高精度工艺而导致晶体管失去开关作用而发明工艺,采用3d立体晶体管架构,突破芯片晶体管22nm工艺极限,不直接作用于光刻机,而是ic设计工程师必须掌握项核心技术。

陈惊璆:“那就交给你。”

“放心,会尽快解决这个技术难点。”林成建现在充满信心,又对盛明安说:“保险起见,光源系统设备最好赶紧申请专利保护。”

盛明安:“知道。”

光源系统设备虽有多人团队协作发明,但真正突破该关键性技术人是盛明安,所以他是申请专利不二人选。

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